美國*MKS流量計馬鞍山

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美國MKSINSTRUMENTS成立於(yu) 1961年，作為(wei) 半導體(ti) 零部件的，在氣體(ti) 、真空儀(yi) 器及製程控製應用等方麵有技術到之處，美*機儀(yi) 器MKSInstruments起源於(yu) 壓力測量和控製核心技術，延伸到材料遞送、氣體(ti) 成分分析、靜電荷控製、工藝控製、信息管理、電源和反應氣體(ti) 發生器及真空技術，其廣泛地應用於(yu) 各種半導體(ti) 生產(chan) 設備和過程中。MKS流量計能快速滿足客戶各種需求；美國MKS包括：美國MKS流量計、MKS薄膜真空計、MKS流量控製閥。
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美*機儀(yi) 器MKSINSTRUMENTS成立於(yu) 1961年，作為(wei) 半導體(ti) 零部件的，在氣體(ti) 、真空儀(yi) 器及製程控製應用等方麵有技術到之處，美*機儀(yi) 器MKSINSTRUMENTS起源於(yu) 壓力測量和控製核心技術，延伸到材料遞送、氣體(ti) 成分分析、靜電荷控製、工藝控製、信息管理、電源和反應氣體(ti) 發生器及真空技術，其廣泛地應用於(yu) 各種半導體(ti) 生產(chan) 設備和過程中。美*機儀(yi) 器MKSINSTRUMENTS在的主要有AMEC、NMC、SMIC、HYNIX等，針對300MM半導體(ti) 市場；而美*機儀(yi) 器MKSINSTRUMENTS的半導體(ti) 設備零部件的研發和也主要針對300MM半導體(ti) 工藝要求。同時，美*機儀(yi) 器MKSINSTRUMENTS還在積極開發太陽能、環境工程和玻璃鍍膜等快速發展的市場。美*機儀(yi) 器MKSINSTRUMENTS電源、測量、控製和複雜氣體(ti) 相關(guan) 的工藝監控技術等改善了設備的完率和成品率，提高了生產(chan) 產(chan) 量和性能，美*機儀(yi) 器MKSINSTRUMENTS目前主要包括：壓力測量和控製係列的電容薄膜壓力傳(chuan) 感器、模擬和數字壓力控製儀(yi) 器和閥等提供半導體(ti) 工藝上、下遊壓力控製設備；質量流量控製器測量和控製半導體(ti) 工藝中各種高純度、高精度氣體(ti) 流量；射頻、直流及脈衝(chong) 等離子電源、匹配器及測試工具為(wei) 半導體(ti) 工業(ye) 提供了的固態電源；ASTEXI係列提供諸如用於(yu) 工藝腔清潔的ASTRON氟離子發生器，用於(yu) 去膠工藝的R*EVOLUTION等離子源，用於(yu) CVD、ALD和清洗的SEMOZON氣態和LIQUOZON液態臭氧發生器；另外美*機儀(yi) 器MKSINSTRUMENTS還提供廣泛的真空、氣體(ti) 分析儀(yi) 、靜電控製、控製及信息技術等係列。